La moda de hacerse autorretratos digitales se infla cada vez más. Ahora en Nueva York se premian las “selfies” como un estilo fotográfico específico. Y para quienes dicen que el país carece de reconocimientos mundiales, este año la ganadora fue una colombiana.

Exposure: The Social Award, una competencia que celebra el poder de la fotografía, premió en su último concurso a Isabella, una chica pereirana de tan solo 14 años.

Isabella Madrid dedica su tiempo libre a fotografiarse. Estas fotos resultan ser piezas originales. Cada una tiene su cosa; un efecto de luz, un fondo diferente. El estilo de la niña está inclinado hacia los colores fríos, lo que le da una estética sombría al trabajo final.

See.me, una comunidad de artistas, diseñadores y músicos que contribuyen al esparcimiento del buen trabajo fotográfico, brindando conexiones entre los más talentosos artistas del mundo, son los encargados del evento, que ya empezó su quinta versión.

El tema de la cuarta edición fue 'selfies'. Los concursantes debían inscribir el mejor autorretrato en la página oficial. El ganador se determinó por mayoría de votos en la red.

Fotógrafos de todos los niveles y estilos fueron invitados a participar por más de100,000 premios, los cuales incluían: estadía en el hotel W New York -Time Square, exhibición del trabajo en la página oficial, entre otros. Isabella ganó con una diferencia mayor a los 3000 votos.